ITO靶的主要生产工艺是:将三氧化二铟和三氧化二锡按一定比例混合均匀---冷等静压成坯--热等静压制成靶--线切割--客户需要尺寸
1、产品:氧化铟锡靶材相对密度为:RD99;纯度≥99.99%在化学上,ITO 是Indium Tin Oxides的缩写。作为纳米铟锡金属氧化物,具有很好的导电性和透明性,可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。因此,铟锡氧化物通常喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上,用作透明导电薄膜,同时减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外。
2、化学成分
In2O3 : SnO2 = 90: 10(m/m),偏差为±0.5%(m/m)。
In2O3 : SnO2 = 97: 3(m/m),偏差为±0.5%(m/m)。
3 物理性能
a、相对密度:相对密度≥99%;密度均匀性偏差≤±0.2%;
b、电阻率:≤2.0Ω·mm2/m;
C、平均线膨胀系数:(2~9)×10-6 ℃-1 ;
d、失氧率:≤5%
4 物理规格
氧化铟锡靶材呈片状或其它形状,最大尺寸为∮250*300,其规格尺寸及其偏差由供需双方商定。