1、主要技术指标
制 品
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牌号
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成份(wt%)
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纯度(%)
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相对密度(%)
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电阻率(mΩ·cm)
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尺寸
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硅铝靶
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SA10
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Si:Al=90:10
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>99.9
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>99
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0.14
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客户要求尺寸
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2、主要杂质含量(实测值)
元素
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Fe
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P
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Ca
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Cr
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含量(%)
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0.029
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0.0001
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0.01
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0.0018
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3、
3、用途:Si-Al合金靶材具有广泛的使用前景,值得大力进行发展,具备良好的经济和社会价值Si-Al合金材料是一种电阻率介于金属与陶瓷之间的半导体性质材料,该种材料靶材镀出的膜层透过率高、导热性能好,线膨胀系数和芯片、ITO等材料的匹配性好,具有优良的溅射镀膜效果,因此可以广泛用做电子封装材料从而替代传统W-Cu、Mo-Cu等电子封装材料,在半导体或微电子行业可以作为基片与电阻、电极间的连接层材料,亦可用于低辐射玻璃镀膜、太阳能电池镀膜、触摸屏镀膜、STN/TN/TFT-LCD等镀膜行业,同时其膜呈枪灰色,亦可以作为装饰镀膜材料用。