活性屏离子氮化炉是我公司研制了具有国际领先水平新型离子渗氮炉。活性屏技术解决了传统离子渗氮技术一些难以克服的技术问题，如：打弧、工件测温控温难、炉内工件温度均匀性差、大小工件不能混装、空心阴极效应、操作复杂等一系列问题。
本设备采用了国内最新一代全逆变式大功率脉冲电源、保温式全不锈钢炉体结构、炉内双测温控温系统、炉内压力双闭环自动控制系统、炉体液压自动升降移动系统、快速充氮冷却系统以及工艺参数自动控制系统等组成。主要控制系统及执行元器件采用法国、德国、美国品牌，可实现手动及全自动操作。
活性屏离子渗氮炉主要适用于小零件氮化、精密模具、高精配件等高端零件的离子氮化、离子氮碳共渗。
适用工艺：离子氮化、离子软氮化
可加工零件尺寸：Φ1000×1500mm/Φ1200×2000mm
最大装炉量：1000kg/2000kg
温度均匀性：±5℃
设备规格列表：
注：以上参数可根据顾客要求调整
网址：www.qdfengdong.com
