全自动氧气净化设备半导体氧气净化装置

全自动氧气净化设备半导体氧气净化装置采用特制催化剂。以工业普氧气为原料气，经催化吸收。过滤的方法除去氧YC中杂质氢，甲烷。一氧化碳，二氧化碳，水汽和尘埃，获得高纯度氧气。

氧气多数是从液态空气中制取的，其中含有微量的水、氮、二氧化碳及一些惰性气体。氧气的纯化有低温精馏法、催化反应法和吸附法。一般采用氯化钙、105催化剂、分子筛注液氮冷阱和下班滤球去除其杂质，将低纯度的氧净化为高纯度的氧。本产品结构简单，系统气密性良好，所以催化剂可长期使用无需再生，吸附剂可在产品再生后重复使用。　

全自动氧气净化设备半导体氧气净化装置以工业普氧为原料气，经催化冷却，二级吸附，精密过滤的方法除去氧中微量杂质氢，甲烷，一氧化碳，二氧化碳，水汽和尘埃获得高纯度的氧气。

全自动氧气净化设备半导体氧气净化装置结构简单，系统气密性良好，所用催化剂（可视原料气的杂质含量来调整工作温度）可长期使用无需再生，二级双塔并联结构的干燥器延长了干燥器再生时间，再生设定周期168小时，节能高效，最大限度的保证了纯气的品质，高效吸附剂可在产品内再生后重复使用。适用于需要大量高纯氧气半导体、光纤、显像管等主要生产部门。

全自动氧气净化设备半导体氧气净化装置技术指标

原料气：液氧

处理气量     100Nm3/h

工作压力     0.4-0.6Mpa

原料氧的纯度：＞ 99.7%

纯化后：     CH4＜0.3ppm     CO2＜0.5ppm   

    H2O＜1.5ppm     尘埃 颗粒≤3.0粒/升（100级）

   装机功率：   380V     10KW   此外氧气在金属切割及焊接等方面也有着广泛的用途。

本系列中压氧气纯化装置适用于需要大量高纯气体的半导体，光纤，显像管等主要生产部门氩气纯化器采用镍合金微孔滤膜，不锈钢外壳，去除气体中的尘埃粒子，进出口为法兰连接或螺纹连接。具有过滤精度高、气密性好、流量大、阻力小、强度好、易再生、寿命长等特点。适用与科研、生产部门作为各种非腐蚀性气体的终端过滤装置。广泛应用于精密机械、半导体器件电真空器件、半导体材料光导纤维等生产工艺

全自动氧气净化设备半导体氧气净化装置冶金工业 

在炼钢过程中吹以高纯度氧气，氧便和碳及磷、硫、硅等起氧化反应，这不但降低了钢的含碳量，还有利于清除磷、硫、硅等杂质。而且氧化过程中产生的热量足以维持炼钢过程所需的温度，因此，吹氧不但缩短了冶炼时间，同时提高了钢的质量。高炉炼铁时，提高鼓风中的氧浓度可以降焦比，提高产量。在有色金属冶炼中，采用富氧也可以缩短冶炼时间提高产量。